多靶位直流/射频溅射,适合制备高质量薄膜与多层结构。
高纯蒸发源与精确通量控制,制备高质量外延薄膜。
用于氧化物等材料外延生长,具备激光蒸发源与多源切换。
支持多种基底尺寸与工艺参数,满足日常薄膜沉积需求。
用于自旋电子学器件制备。
用于磁畴结构与翻转过程的显微成像与定量分析。
支持样品旋转与变温,实现磁光表征。
研究自旋波、磁振子,进行 DMI 测量。
提供多方向磁场环境,适配低温输运与磁性测量。
在受控温度和磁场下测试电学/磁电学器件特性。
表征薄膜与纳米结构的磁各向异性、阻尼与交换特性。